Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://libr.msu.by/handle/123456789/13443
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЮревич, Ю. В.-
dc.contributor.authorЮревич, В. А.-
dc.date.accessioned2020-12-28T06:57:55Z-
dc.date.available2020-12-28T06:57:55Z-
dc.date.issued2015-
dc.identifier.citationЮревич, Ю. В. Импульсы сверхизлучения в тонком инверсном слое // Ю. В. Юревич, В. А. Юревич // Веснік Магілёўскага дзяржаўнага ўніверсітэта імя А. А. Куляшова. Сер. В. Прыродазнаўчыя навукі (матэматыка, фізіка, біялогія). – 2015. – № 2 (46). – С. 45–52.ru_RU
dc.identifier.urihttp://libr.msu.by/handle/123456789/13443-
dc.description.abstractДля модельных параметров полупроводниковых квантоворазмерных структур проведен численный расчет процесса сверхизлучения (СИ), который развивается в субмикронном планарном слое инверсной среды из инициирующего излучения спонтанной люминесценции на частоте резонанса, соответствующей экситонным переходам. При моделировании учитывается возможность диполь-диполъного взаимодействия, сделана оценка его влияния на характеристики импульса СИ. Получено аналитическое выражение для огибающей импульса СИ.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherМагілёўскі дзяржаўны ўніверсітэт імя А. А. Куляшоваru_RU
dc.subjectкогерентные оптические эффектыru_RU
dc.subjectтонкая пленка активных атомовru_RU
dc.subjectплотная резонансная средаru_RU
dc.subjectквантоворазмерная полупроводниковая структураru_RU
dc.titleИмпульсы сверхизлучения в тонком инверсном слоеru_RU
dc.typeArticleru_RU
Располагается в коллекциях:2015, № 2 (46)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
4413n.pdf384 kBAdobe PDFЭскиз
Просмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.