Please use this identifier to cite or link to this item: https://libr.msu.by/handle/123456789/14826
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПолячёнок, О. Г.-
dc.contributor.authorПолячёнок, Л. Д.-
dc.contributor.authorСтепаненко, В. Н.-
dc.contributor.authorДудчик, Г. П.-
dc.contributor.authorВаранкова, Н. В.-
dc.date.accessioned2021-03-18T09:04:31Z-
dc.date.available2021-03-18T09:04:31Z-
dc.date.issued2000-
dc.identifier.citationТермодинамический анализ некоторых химических процессов с участием тетрафторида кремния и кварцевого стекла / О. Г. Поляченок [и др.] // Веснік Магілёўскага дзяржаўнага ўніверсітэта імя А. А. Куляшова. – 2000. – № 4 (7). – С. 59–66.ru_RU
dc.identifier.urihttp://libr.msu.by/handle/123456789/14826-
dc.description.abstractПредставлены результаты термодинамических расчетов химического равновесия в системах SiF4-Si02 и SiF4-H20, необходимые для разработки нетрадиционной технологии производства полупроводникового кремния из фторсодержащего сырья. Показано, что получаемый термическим разложением фторосиликатов тетрафторид кремния может содержать пары воды, фтористый водород и оксофторид кремния. Поэтому он должен сразу же очищаться от этих примесей с использованием химических или сорбционных методов.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherМагілёўскі дзяржаўны ўніверсітэт імя А. А. Куляшоваru_RU
dc.subjectхимияru_RU
dc.subjectтермодинамический анализru_RU
dc.titleТермодинамический анализ некоторых химических процессов с участием тетрафторида кремния и кварцевого стеклаru_RU
dc.typeArticleru_RU
Appears in Collections:№ 4 (7)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
5850n.pdf611,12 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.